Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿**技術(shù)，配置全自動Mapping運動機構(gòu)，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片的膜厚及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征。

一、概述

     ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿**技術(shù)，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。

■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案；

■ 支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量；

■ 配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力；

■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力

二、產(chǎn)品特點

■ 采用氘燈和鹵素燈復(fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■ 高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；

■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

三、產(chǎn)品應(yīng)用

      ME-Mapping廣泛應(yīng)用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。

ME-L

ME-Mapping

SE-VM

SE-VE

SE-PV

SE-VF

SE-i

SR-i

SR-M

RT-V

SR-Mapping

SR-C

XE

代 理日 本各類工業(yè)品：日本SAN-EI TECH三英，MUSASHI武藏，Nordson諾信EFD，IEI巖下，aicohsha愛工舍ACM（特殊立式攪拌機），KLEENTEK可濾特，ASAHIKASEI旭化成，TAGAWA十川，YODOGAWA淀川電機，MALCOM馬康，USHIO牛尾，SHOWA DENKI昭和電機，TSUBAKI椿本，morite茉 莉特，KIKUSUI菊水，HOZAN寶山，TRUSCO中山，cedar思達，MEISEI邁澤（電熱剝線器）、SANKO山高（金屬探測器、膜厚儀）、TAKASAGO高砂制作所 （直流電源）MITSUBISHI三菱 （UPS電源、PLC自動化）
CCS光源（視覺光源、檢查光源）、Tsubosaka壺坂（燈箱、光度計、輝度箱、光源）、POLARION普拉瑞（探照燈、HID強光燈、檢查燈）AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎（金鹵燈、HID燈、UV燈）
OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀、相位差測試儀、粒度儀）、LUCEO魯西歐（表面應(yīng)力儀、偏光應(yīng)力儀）
KYOWA共和（應(yīng)變片、壓力傳感器）、ONOSOKKI小野測器（傳感器、檢測儀）
CKD（氣動元件、電缸）、FUJIKURA藤倉（單向閥、泄壓閥、摩擦氣缸）
TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)（粘度計）、ASKER高分子計器（橡膠硬度計、試驗機）SK新瀉精機（水平尺、水平測量儀器）SKSATO佐藤（溫度計、溫度記錄儀）、上海一恒儀器 （恒溫箱、烘箱、）、TECLOCK得樂（硬度計、千分表）、AND愛安得（電子天平、工業(yè)天平）、KEM京都電子（水分儀、自動電位滴定儀）
TOHNICHI東日（扭力扳手、螺絲刀）KANON中村（電動螺絲刀、扭力工具）
Heishin兵神（泵、點膠機）、KOKUSAN科庫森離心機、YUASA湯淺（柔性屏彎折試驗機）、
SIMCO思美高，SSD西西蒂，DIT東日技研，KASUGA春日，TRINC高柳（靜電儀器設(shè)備）、Kanetec強 力（磁力設(shè)備、高斯計）
ASONE亞速旺（實驗室儀器、車間穿戴裝備）、SAKURAI櫻井（無塵紙、熱敏紙）、Nitto-Kohki日東工器（快速接頭）、NIRECO 尼利可（電動執(zhí)行器、傳感器）

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