如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設備
產(chǎn)品型號:
A6300S
產(chǎn)品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價格:
0.00 元
關(guān)注指數(shù):90
產(chǎn)品文檔:
無相關(guān)文檔
AMAYA株式會社天谷制作所A6300S
常壓CVD裝置，準備了滿足顧客需求的產(chǎn)品陣容。同時，定做也對應。
對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途。從少量生產(chǎn)到大量生產(chǎn)
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區(qū)域可以廣泛成膜
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設備
的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作所
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設備
A6300S
-
6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
-
采用SiC托盤防止重金屬污染的對策
特征
-
這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設備的需求，實現(xiàn)每小時120片晶圓的吞吐量。
-
該設備通過運輸系統(tǒng)實現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)*大限度地減少了為實現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托盤的數(shù)量，并降低了成本。
-
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
-
標配自動托盤更換功能，實現(xiàn)工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構(gòu)便于清潔。
性能
|
均勻的薄膜厚度
|
≦±4.0%
|
|
支持的晶圓尺寸
|
≦6英寸
|
|
氣體種類
|
SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
|
|
薄膜沉積溫度
|
350°C~450°C
|
|
生產(chǎn)力
|
120 頁/小時
|
主要規(guī)格
|
設備尺寸
|
1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高）
|
|
加熱機構(gòu)
|
電阻加熱
|
|
裝載卸載
|
機器人 CtoC 運輸
|
|
分散頭（氣體噴嘴）
|
A63 頭（標準 2 頭）
|
